氮化铬

      氮化材料行业在我国发展的还是很不错的，因为氮化材料的应用很广泛，采用阴电弧等离子体沉积技术。阴电弧等离子体沉积是相对较新的薄膜沉积技术，它在许多方面类似于离子镀技术。其优点：在发射的粒子流中离化率高，而且这些离化的离子具有较高的动能（40-100eV)。许多离子束沉积的优点，如提粘着力，增加态密度、对化合物膜形成具有高反应率等优点在阴电弧等离子体沉积中均有所体现。而阴电弧等离子体沉积又具有自己一些独特优点，如可在较多复杂形状基片上进行沉积，沉积率高，涂层均匀性好，基片温度低，易于制备理想化学配比的化合物或合金。通过蒸发过程将阴材料蒸发是源于高电流密度，所得到的蒸发物由电子、离子、中心气相原子和微粒组成。在阴电弧点，材料几乎被离化，这里离子在几乎垂直于阴表面的方向发射出去，当带有高能量的铬离子碰到氮气后便会马上产生化学反应，变成气态的氮化铬分子了。