氮化铬
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采用阴极电弧等离子体沉积技术。阴极电弧等离子体沉积是相对较新的薄膜沉积技术,它在许多方面类似于离子镀技术。其优点:在发射的粒子流中离化率高,而且这些离化的离子具有较高的动能(40-100eV)。许多离子束沉积的优点,如提粘着力,增加态密度、对化合物膜形成具有高反应率等优点在阴极电弧等离子体沉积中均有所体现。而阴极电弧等离子体沉积又具有自己一些独特优点,如可在较多复杂形状基片上进行沉积,沉积率高,涂层均匀性好,基片温度低,易于制备理想化学配比的化合物或合金。
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