厂家为您讲解氮化硅是如何进行合成和加工的

       随着我国经济水平的不断发展和工业水平的不断提高，氮化硅的用途也是越来越广泛，那么大家知道它是如何进行合成和加工的吗？接下来就简单的为大家介绍一下。
       它的合成方法主要就是在一千三百摄氏度至一千四百摄氏度的条件下使用单质的硅和氮气进行化合反应，然后得到氮化硅，也可以通过二亚胺进行合成，也可以利用碳热还原反应在一千四百摄氏度至一千四百五十摄氏度之间的氮气之下进行合成，碳热还原反应属于是简单的途径也是工业上制造氮化硅粉末符合成本效益的手段。
       如果想要在半导体上沉积氮化硅的话，可以利用低压化学气相沉积技术在相对比较高的温度下进行利用垂直或者是水平管式炉进行，也可以等离子体增强化学气相沉积技术在相对温度比较低的真空下进行。因为氮化硅的晶胞参数和单质硅不同，因此根据沉积方法的不同，生成的氮化硅薄膜会产生张力或者是应力，特别是当使用等离子体增强化学气相沉积技术的时候，可以通过调节沉积参数从而起到减少张力的作用。粒装材料的氮化硅是很难进行加工的，不可以加热到熔点以上，因为如果超过熔点的话氮化硅会发生分解，分解成硅和氮气，因此在加工的时候一定要注意这一点。如果您对于氮化硅有疑问或者是需要的话，欢迎向我们致电咨询。