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国内碳化硅技术的个性发展状况

来源:http://www.hxdhcl.com/news/56.html   发布时间:2015-08-26

国内碳化硅技术的个性发展状况

为了进一步可以提升碳化硅的使用率,所以在技术方面我们厂家也一直没有松懈过,尤其是创新的领域发展中,我们厂发现其实碳化硅具有非常大非常辽阔的作用的。      

众所周知,目前大多数的半导体材料都是单晶硅,长期以来,我国的单晶硅主要依靠进口。相比单晶硅,碳化硅材料的制作和应用则一直很困难,当前世界上研发碳化硅器件的主要有美国、德国、瑞士、日本等国家,但直到现在碳化硅的工业应用主要是作为磨料(金刚砂)使用。半导体碳化硅衬底及芯片的重要战略价值,我国第二家企业对4英寸高纯半绝缘碳化硅衬底产品的研制成功,说明我国在碳化硅晶片产品在工艺和产量上已经能摆脱对国外的依赖,走向了自主化的规模生产和普遍应用。

碳化硅微粉、碳化硅颗粒等碳化硅材料的物理特性与硅有很大不同。单晶碳化硅比单晶硅具有很多优越的物理特性,在具体的应用上,虽然碳化硅器件的工艺难度比单晶硅大很多,但是一旦解决工艺问题,碳化硅器件制造流程短,体积重量小、抗氧化寿命长、输出功率高的特点。

而且碳化硅材料对于电力的能耗是比较低的,所以说在照明的应用领域中,是非常低的,相对于煤来说是一种非常节能的材料了。

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