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氮化锰薄膜的制作方法是什么

来源:http://www.hxdhcl.com/news/194.html   发布时间:2019-06-12

    其实,作为一种氮化材料,氮化锰可应用在不同的领域中。由于锰、氮的各种作用,在炼制高强度钢、不锈钢、耐热钢时需要同时加人锰、氮元素。以单质形式加入锰、氮两种元素时,存在如氮的溶解度低、密度小、不易加入及氮的添加量不易控制等缺点。然而,以氮锰化合物形式加入时,不仅易于加入,并且锰、氮的利用率也高。
    为了能够加深大家对氮化锰的了解,掌握更多关于氮化锰的应用范围,将向大家简单的讲一下氮化锰薄膜的制作方法。传统的Mn基阻挡层主要通过PVD共沉积CuMn复合材料,然后使用热退火处理,使Mn扩散至介质表面来实现。但是,在退火过程中,Cu与low-k(比如SiCOH)介质直接接触,将会导致Cu在介质材料中扩散;而且形成的MnSixOy薄膜导电性较差,一般为绝缘体,会导致RC延迟增加。

    以脉冲的方式向反应腔中通入Mn(EtCp)2蒸气,使之与衬底表面的Si-H或Si-OH 活性基团发生反应(Mn(EtCp)2中某一个化学键断裂与衬底表面的悬挂键成键),在衬底上形成密集且均匀且密集吸附的Mn(EtCp)2层;通入吹洗用气体,以将反应腔中多余的Mn(EtCp)2蒸气以及气态的反应副产物 吹洗干净;以脉冲的方式向反应腔中通入NH3气体,同时开启等离子体发生器使其电离产 生NH3等离子体,并与吸附于衬底表面的Mn(EtCp)2发生化学反应(NH3等离子体将与Mn连接 的苯环键打断,并与Mn成键)。通入吹洗用气体,以将反应腔中多余的NH3等离子体以及反应副产物吹洗干净,获得氮化锰薄膜。

氮化锰

    通过以上方法制成的氮化锰薄膜具有很多优点,如制作工艺简单,无需后退火,可直接在介质上形成MnxNy阻挡层薄膜。氮化锰薄膜具有很好的均匀性和表面平整度,较低的电阻率。希望大家可以通过这些信息,进一步增加对氮化锰薄膜的了解。同时,也能间接的了解到,氮化锰的应用范围。

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