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氮化硅厂家讲解氮化硅的制备方法

来源:http://www.hxdhcl.com/news/142.html   发布时间:2017-06-28

    安阳市红兴氮化材料有限公司作为一家专业的氮化硅厂家,从事于氮化硅生产多年,在生产方面具有成熟的技术,丰富的经验,多年来也为市场上提供了一大批优质的氮化硅,赢得了众多用户的认可。为回报广大用户多年来的支持,也为了让更多的用户了解氮化硅,将简单的介绍一下氮化硅制备方法。
    一,硅粉直接氮化法,主要是指纯净硅粉在N2、N2+H2或NH3的还原性气氛中发生反应,生成氮化硅微粉。此法在较低温度下得到的是α-Si3N4和β-Si3N4的混合物,高温下得到的只有β-Si3N4。该法对硅粉粒径的要求比较高,而且反应温度比较高,对反应设备的耐高温耐高压性能提出了要求。因此,硅粉直接氮化法质量的进一步提高主要取决于碾磨机性能的提高和单质硅性质的改善。而由此方法发展起来的自蔓延高温合成 为硅粉直接氮化法开辟了一条新的思路。

    二,碳热还原法,是指SiO2和C的粉末在高温下的N2气氛中发生氮化和还原反应,生成Si3N4微粉。虽然目一前人们对此反应的机理还没有探索清楚,但可以确定的是反应中生成了SiO2并由SiO2参与气相反应。产物的组成主要受C/SiO2比、起始物料的结构特征(细颗粒,低的粒径分布和晶型)、反应气相的组成和反应温度的控制。可以通过控制CO气流量来达到控制产物生成的速率。这种方法的一个很大的优点就是利用了自然界中十分丰富的二氧化硅为原料,特别适宜于大规模生产氮化硅微粉,且反应产物经热处理后为疏松粉末,粉体形状规则,粒径分布窄,无需再进行粉碎处理,从而避免了杂质的再次引入;缺点是杂质含量特别是碳的含量比较高,而且以氮气作为反应物反应速度比较慢,而在氨气气氛中合成反应要比氮气气氛中快得多。

    三,卤化硅氨解法,硅的卤化物(SIC14、SIBr4等)或硅的氢卤化物(SiHCl3、SiHZCl2、SiH3I等)与氨气或者氮气发生化学气相反应,生成氮化硅。因为反应物是卤化硅和氨气,又在气相中反应,所以通常可以制得高纯的α氮化硅或无定形氮化硅粉末。或者在低温下先由硅的卤化物或氢卤化物生成硅亚胺,再由硅亚胺加热分解得到氮化硅。此反应的关键是要制得纯的硅亚胺,通过硅亚胺的热分解可以直接制得很纯的α-Si3N4粉末;反应速度、也比较快,至今已开始应用于生产非晶氮化硅薄膜。如果作为合成氮化硅微晶的方法,此路径相对比较长,且需要低温条件。
    其实制备氮化硅的方法还有一些,关于氮化硅的信息也还有很多,但是由于时间的原故,不能进行一一详解。如果您有兴趣,想要具体的了解一下,或是想要购买氮化硅,都可以与我公司联系。

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